KM-S · 晶圆干燥

KM-S 12英寸晶圆超临界干燥系统

KM-S用于8/12英寸晶圆与方形基板干燥,配置13英寸级高压仓及自动釜盖。

晶圆 / 仓体8/12英寸晶圆
13英寸级高压仓
压力 / 温度0-3500 psi
-30至80°C
洁净过滤按晶圆工艺要求
确认具体配置
接口MES及现场系统
按现场要求评估
KM-S 12英寸晶圆超临界干燥系统
柜式晶圆系统,面向洁净产线和自动化接口。
KM-S晶圆承载与微结构保护说明图
说明图结构保护
KM-S控制界面与批次追溯技术图
技术图控制接口
KM-S晶圆洁净产线场景图
场景图洁净产线

技术规格

KM-S 技术规格

晶圆系统按项目配置;标注"按配置"的项目随晶圆尺寸、洁净等级与现场接口确定,最终以正式规格书为准。处理周期按产线节拍评估。

KM-S · Specifications
适配样品8″ / 12″ 晶圆;方形玻璃基板、微球阵列等载体按项目
样品仓13″ 级高压仓,深度按项目配置
工作压力0–3500 psi
工作温度−30 ~ 80 °C
釜盖自动升降釜盖,电动闭环 + 高压密封
接液材料316L,按配置确认
洁净过滤按晶圆工艺洁净要求配置
数据记录温度、压力、状态与报警,批次追溯
现场接口MES 及现场系统,按项目评估
KM-S 产品宣传页 产品宣传页

晶圆治具与应用

KM-S 晶圆治具与应用

围绕晶圆承载、洁净流路与自动化接口配置,覆盖 8/12 英寸晶圆的批量干燥导入。

KM-S 12英寸晶圆承载治具结构示意结构示意
治具 12″ 晶圆承载治具

圆形垂直提篮适配料仓,按片数与间距定制承载。

KM-S 自动开合盖与夹持机构示意结构示意
机构 自动开合与夹持

双杆同步升降,闭盖后由周向机构完成锁紧。

KM-S 内置机电模块结构示意结构示意
系统 内置机电模块

制冷、增压与控制模块内置,外部仅保留必要接口。

晶圆湿法清洗后干燥样品实拍
场景 晶圆湿法清洗后干燥

湿法工艺后的无损干燥与结构释放。

图形化晶圆与裸MEMS悬臂梁样本样品示意
场景 MEMS 悬臂梁释放

高深宽比微结构的批量释放保护。

洁净产线导入场景实拍
场景 洁净产线导入

需要洁净过滤与批次追溯的产线场景。

技术特点

晶圆承载、洁净流路与系统集成

KM-S自动釜盖、洁净流路与数据接口集成示意 系统集成
  1. 自动升降釜盖

    电动闭环开盖与高压密封,减少人工操作的不确定性。

  2. 洁净流路

    316L 接液部件与洁净过滤,保护晶圆级流体路径。

  3. 批次数据追溯

    配方、运行记录与报警日志,支持批次比较与追溯。

  4. 产线接口评估

    自动釜盖、报警记录、MES 及现场系统接口按项目要求评估。

选型与前处理

KM-S 选型常见问题

对比各型号的仓体、工作范围与适用场景 →

KM-S晶圆超临界干燥系统支持多大尺寸的样品?

面向8/12英寸晶圆,采用13英寸级高压仓。方形玻璃基板、微球阵列等载体的外形、厚度、载具与仓体深度需按项目确认。

KM-S的工作压力和温度范围是多少?

公开工作范围为0–3500 psi、−30–80 °C。具体温压组合、样品兼容性和程序需按正式规格书与工艺验证确认。

KM-S能否配置洁净过滤和MES接口?

可按晶圆工艺要求评估洁净过滤、316L接液材料及MES或现场系统接口。过滤等级、协议和联锁边界需在方案阶段确认。

晶圆超临界干燥选型前需要提供哪些信息?

建议提供晶圆直径、厚度、单批数量、载具、当前溶剂、目标形貌、洁净要求及现场接口;可先安排样品测试,再确认仓体与配置。

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样品测试

KM-S 晶圆测试与工艺评估

您提供晶圆样品、结构形式与洁净要求,我们评估治具承载、置换路径与洁净流路配置,并反馈处理后的结构释放表现。

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